光刻机技术长久以来是我国科技领域的一大难题，美荷等国曾利用技术封锁企图制约我国发展。然而，近期中国在光刻机技术上实现了突破，并完成了半导体产业链的闭环，成为全球首个拥有完整生产线的国家。
面对封锁，中国并未屈服，反倒是将其转化为了技术飞跃的动力。今年9月，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中，国产光刻机的身影赫然在目，包括110nm的氟化氪光刻机与65nm的氟化氩光刻机，这一成就颠覆了外界对中国光刻机制造能力的认知，标志着从“造不出”到成功量产的巨大转折。
中国在光刻机产业上的崛起，经历了从落后到并跑乃至局部领先的艰难历程，自主研发的光刻机如同宣言，向世界展示了中国科技的力量。尽管与国际顶尖如ASML尚存差距，但每一步前进都是胜利的累积，中国有信心逐步缩小直至超越，实现半导体技术的全球引领。
国际社会对中国此番突破的反响复杂多变，尤其是光刻机技术领先的美荷两国，表面上的平静难掩内心的忧虑。中国技术的突破预示着全球半导体产业格局的潜在变动，可能促使原有产业链面临重组，同时激发全球范围内的技术创新与竞争。